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还有一种MOS晶体管,叫做MOS栅极控制晶闸管,是一种新型MOS与双极复合型器件。它采用集成电路工艺,在普通晶闸管结构中制作大量MOS器件,通过MOS器件的通断来控制晶闸管的导通与关断。
mos管工作原理是N型硅衬底表面不加栅压就已存在P型反型层沟道,加上适当的偏压,可使沟道的电阻增大或减小。
一般来说,MOS管两个一组出现在主板上。工作原理双极晶体管将输入端的小电流变化放大,然后在输出端输出大的电流变化。双极晶体管的增益定义为输出电流与输入电流之比(β)。
MOS管一般又叫场效应管,与二极管和三极管不同,二极管只能通过正向电流,反向截止,不能控制,三极管通俗讲就是小电流放大成受控的大电流,MOS管是小电压控制电流的。
MOS管全称是MOSFET,意思是金属绝缘栅型场效应管,因为它的栅极与沟道之间有一层绝缘层而得名,且栅极通常采用铝金属作为材料而得名。它是场效应管的一种(另外一种是结型场效应管)。
场效应晶体管(FieldEffectTransistor缩写(FET))简称场效应管。主要有两种类型(junctionFET—JFET)和金属-氧化物半导体场效应管(metal-oxide semiconductor FET,简称MOS-FET)。由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管。
场效应管就是MOS管,场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管,MOS管可以说是一种通俗的叫法吧,一些采购工程比较喜欢叫MOS管。
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Mos栅宽对跨导的影响是由于栅宽增加会使沟道宽度缩小,导致漏电流增大,从而影响MOS的跨导特性。当栅宽增大,漏电流增加,使得MOS管的跨导变大,因为跨导是漏电流的导数。
然后I对Vgs求偏导即可:g = partial (Id)/partial (Vgs)= u*Cox*Vds*(W/L)以上partial为偏导算符,打不出来,只能这么写了,u是载流子迁移率,Cox是单位栅电容大小,W和L分别是MOS的宽和长。
跨导值越大,意味着可以用更小的栅源电压控制漏极电流发生更大的变化,意味着放大作用更大。跨导和漏极电阻的乘积,等于共源放大器的空载电压放大倍数(空载电压增益系数)。
(Vds^2)]然后I对Vgs求偏导即可:g = partial (Id)/partial (Vgs)= u*Cox*Vds*(W/L)以上partial为偏导算符,打不出来,只能这么写了,u是载流子迁移率,Cox是单位栅电容大小,W和L分别是MOS的宽和长。
MOS管的gm如同三极管的β,是衡量MOS管放大能力的标志之一。不过话说回来,不是什么时候都需要放大能力强,比如在做开关管的时候,就需要器件能很快地在饱和、截止状态之间转换,达到深度饱和的速度要快。
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